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鎳基合金晶間腐蝕檢測(cè)機(jī)構(gòu)靠譜嗎

發(fā)布時(shí)間:2021-08-17 訪問量:804次 來源:隱石檢測(cè)
鎳基合金晶間腐蝕檢測(cè)機(jī)構(gòu)靠譜嗎,現(xiàn)代我們國家金屬材料使用范圍廣,金屬材料容易被腐蝕,在使用過程中無法避免。那么該如何進(jìn)行金屬腐蝕檢測(cè)呢?

鎳基合金晶間腐蝕檢測(cè)機(jī)構(gòu)靠譜嗎

,建議含Ti和Nb的Cr Ni奧氏體不銹鋼只能在低碳和超低碳不銹鋼不能被替代的情況下使用,如用作耐熱鋼和在聚硫酸中使用。


在某些合金介質(zhì)體系中,常發(fā)生嚴(yán)重的晶間腐蝕。例如,奧氏體不銹鋼在弱氧化介質(zhì)(如曝氣海水)或強(qiáng)氧化介質(zhì)(如濃硝酸)等特定腐蝕介質(zhì)中可能產(chǎn)生嚴(yán)重的晶間腐蝕。


晶間腐蝕:金屬材料在特定腐蝕介質(zhì)中沿晶界發(fā)生的局部選擇性腐蝕。晶界是不同晶粒之間的邊界。由于晶粒有不同的取向,原子在結(jié)處的排列必須逐漸從一個(gè)取向轉(zhuǎn)變?yōu)榱硪粋€(gè)取向。因此,晶界實(shí)際上是一種“表面”不完整的結(jié)構(gòu)缺陷。由于晶格畸變的增加,晶界處原子的平均能量高于晶內(nèi)。較高的能量稱為晶界能。純金屬晶界在腐蝕介質(zhì)中的腐蝕速率比晶體的腐蝕速率快,這是因?yàn)榫Ы绲哪芰扛撸犹幱诓环€(wěn)定狀態(tài)。


根據(jù)稀釋理論,晶間腐蝕是由于組件的稀釋晶界由于容易沉淀的第二階段的晶界(1)奧氏體不銹鋼,鉻缺乏是由于晶界Cr23C6階段的降水,(2)對(duì)于Ni Mo合金,ni7mo5在晶界處析出,鉬在晶界處含量較低;(3)對(duì)于銅鋁合金,CuAl2在晶界處析出,導(dǎo)致晶界處銅含量較低。


鎳基合金晶間腐蝕檢測(cè)機(jī)構(gòu)靠譜嗎

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